前言：熟悉半導(dǎo)體領(lǐng)域的人都會(huì)了解硅晶圓，硅晶圓是半導(dǎo)體的核心，也是成本占比最高的材料，對(duì)純度也有超高要求，是一種為了制成半導(dǎo)體積體電路的原材料。本文淺析一下硅晶圓生產(chǎn)為何需要應(yīng)用超純水設(shè)備。

　　硅晶圓作為半導(dǎo)體的核心部件，其在制造過程中需要應(yīng)用超純水設(shè)備的原因有以下幾點(diǎn)：

　　1.對(duì)于清潔度的要求。硅晶圓制造過程中對(duì)水質(zhì)清潔度要求非常高。普通水中的雜質(zhì)和離子可能會(huì)影響到硅晶圓的品質(zhì)和性能，因此需要使用超純水來(lái)清洗和加工硅晶圓。

　　2.制作中需要使用表面活性劑來(lái)清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。這些表面活性劑對(duì)水的純凈度要求非常高，應(yīng)用高度純凈的超純水，使表面活性劑能夠充分發(fā)揮作用，有效清洗硅晶圓表面的污垢和油脂。

　　3.生產(chǎn)效率在硅晶圓制造過程中，使用超純水設(shè)備可以顯著提高生產(chǎn)效率。高度純凈的超純水可以快速蒸發(fā)，使硅晶圓更快地干燥和冷卻，從而縮短生產(chǎn)周期和提高生產(chǎn)效率。

　　簡(jiǎn)而言之，就是為了提高硅晶圓質(zhì)量需要使用超純水設(shè)備。我國(guó)雖然半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)起步較晚，但是發(fā)展比較迅猛。那么什么樣的超純水設(shè)備才能產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水呢？

　　目前常見的超純水設(shè)備核心工藝為“預(yù)處理+反滲透+EDI+拋光混床”的組合形式。該超純水設(shè)備具有高效低能、運(yùn)行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn)。這樣的超純水設(shè)備在運(yùn)行時(shí)是不需要添加任何化學(xué)品的，不僅減少了化學(xué)品運(yùn)輸問題，同時(shí)降低了系統(tǒng)運(yùn)行費(fèi)用。并且設(shè)備不會(huì)有酸堿廢液產(chǎn)生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下產(chǎn)出的濃水完全可以回收再利用，并且采用的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)相對(duì)靠緊，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間。

　　超純水設(shè)備可以更好的，連續(xù)的，穩(wěn)定地制備高品質(zhì)的超純水，完全符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。隨著我國(guó)科技半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展與壯大，對(duì)于硅晶圓的產(chǎn)出質(zhì)量要求也會(huì)越來(lái)越高，所以對(duì)于使用超純水設(shè)備要求也會(huì)提高，這也將帶動(dòng)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

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